光刻胶

光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的化学物质,用于光刻工艺中,可通过光照实现图形转移,在芯片制造等领域至关重要。


类别描述
AZ系列

光刻胶型号:AZ5214,AZ4620,AZ6130等 适用光谱:g/h/i-line 厚度:1-30um 分辨率:1um 适用工艺:可用于深硅刻蚀 

SU-8系列

光刻胶型号:SU-8 10系列,20系列,30系列 适用光谱:g/h/i-line 厚度:0.1-400um 分辨率:0.5um 适用工艺:适合于高深宽比工艺,透明度高,垂直度好 

PI

光刻胶型号:BL-301系列 适用光谱:g/h/i-line 厚度:4-15um 分辨率:8-10um 适用工艺:用于各种绝缘层工艺,固化温度最低可以达到200℃

电子束胶光刻胶型号:HSQ Fox-15/16 电子束 适用光谱:100nm 厚度:350nm-810nm 适用工艺:分辨率最好的光刻胶,抗刻蚀