刻蚀

• 刻蚀工艺是通过化学或物理方法在衬底表面精确去除材料，形成电路图形的关键技术。主要分为湿法（溶液腐蚀）和干法（等离子体刻蚀），后者具有高分辨率、可控性强等优势，广泛应用于纳米级制程中高深宽比结构的加工。